选择语言 < 返回菜单
行业/方案背景：
化学机械抛光（CMP）作为半导体制造中的关键工艺，其设备集精密机械、流体控制、化学试剂与电气系统于一体，运行环境苛刻（存在化学腐蚀、振动、温湿度变化），对设备内部电气连接的可靠性、稳定性和洁净度提出了极致要求。
全品类电气辅材解决方案：
稳不落CMP设备行业解决方案，基于我们对半导体设备严苛要求的深刻理解，提供从线缆管理、端子压接到防护密封的全系列、高品质电气配电器材。详细解决方案内容可咨询客服。
客户真实案例：
相关产品推荐：
以下是我们针对该解决方案推荐的核心电气辅材产品，它们是化学机械抛光(CMP)设备解决方案价值的坚实基础。
手机：19905125103
邮箱：19905125103@wenbuluo.com
地址：江苏省昆山市开发区熊庄路25号二楼